ЭМС GloQube®Аппарат для обработки тлеющего разряда - это новый тип компактного, удобного в эксплуатации прибора, который особенно подходит для модифицированной обработки медной сетки, поддерживающей мембраны и очистки поверхности при изготовлении проб в зеркальной камере, а также для биолабораторного стекла и других поверхностных гидрофобных и зарядовых процессов.

ЭМС GloQube®:: двухкамерная конструкция, одна для гидрофобной модификации поверхности; Один используется для очистки поверхности, используя реагенты, такие как метанол.

Для предотвращения аварий высоковольтные провода блокируются; Плазменный ток может регулировать размер, регулируя уровень вакуума. Чтобы максимизировать эффективность прибора, аргон используется в качестве рабочего газа при тлеющем разряде.

Между двумя камерами установлен автоматический переключающий клапан для предотвращения перекрестного загрязнения. Быстрая загрузкаТЕМПробы несущей сети и углеродной поддерживающей мембраны, каждая камера с высоко регулируемым стендом для образцов, способным устанавливать зажимы2штука25х75ммНесущие стекла. Безопасная инъекция аргона, использование мембранного герметичного баллона, обработка реагента очень безопасна, простая загрузка с помощью проталкивания и прокола. Быстрый ввод параметров и процедур хранения, достижимых“Процедуры выбора камеры, создания и редактирования или вызова"Функции, отображающие состояние работы программы в режиме реального времени, с меню справки и журналом запуска.

Как гидрофобный (нефтефильный)ТЕМУглеродная поддерживающая мембрана обрабатывается газовым тлеющим разрядом в атмосфере воздуха, поверхность имеет отрицательный заряд и гидрофильность, а водный раствор легко рассеивается. сТЕМРастет популярность и рабочая нагрузка зеркал,ТЕМКачество сетей и поддерживающих мембран становится более важным, чем когда - либо. Кроме обычных углеродных мембран.ТЕМПомимо применения медной сетки, он также широко используется в углеродных пленках, белках, антителах и нуклеиновых кислотах, молекулах белков с положительным зарядом(какА.Ферритин, цитохромс)Различные требования.ТЕМПредварительная обработка образцов. Это позволяет достичь четырех различных результатов:

1гидрофильная и с отрицательным зарядом

Светильный разряд используется для изменения углеродной пленки, фанхуа иТЕМУглерод поддерживает признанные методы поверхностных характеристик мембраны. Углерод является естественным гидрофобным, и короткая обработка тлеющим разрядом может изменить его поверхностные свойства на гидрофильные.

2Гидрофильная и положительная зарядовая обработка

Нельзя использовать только тлеющий разряд.“Гидрофильность и положительный заряд"Обычно сначала делается свечение воздушной атмосферы, затем - уксуснокислый магний.(Ацетат магния)или0,1%(В/В) Обработка раствором полилизина. Часто используется для усиления адгезии нуклеиновой кислоты к углеродной пленке.

3Гидрофобные и с положительным зарядом

Обработанная в парах алкиламина углеродная пленка имеет положительный заряд. Осадочные полимеры приводят к изменению размеров мембраны. Подходит для больших молекул с отрицательным зарядом и может использоваться для химической адсорбции широкого спектра биологических молекул, включая белки, антитела и нуклеиновые кислоты.

4Гидрофобные и с отрицательным зарядом

Углеродная пленка (обычно метанол), обработанная в атмосфере восстановления углеводородов, может вызывать гидрофобию– вПоверхность, которая может сильно адсорбировать большие молекулы с положительным зарядом, такие как ферритин и цитохромССемейство изобелков (связанных с митохондриальной эндометрией).

Особенности и преимущества:

1Двухкамерный дизайн

2Гидрофильные гидрофобные и положительные и отрицательные зарядовые режимы

3Полностью автоматическая работа, высокая эффективность работы

4Управление сенсорным экраном компьютера

5)Удобно обрабатывать образцы

6Контролируемый способ загрузки газа для предотвращения возмущения и повреждения образца

7Автоматическое переключение клапанов между двумя камерами предотвращает перекрестное загрязнение

8Малые независимые системы, компактные структуры

9Результат последовательный и надежный, хорошо повторяется

Основные технические характеристики:

1) Плазменный ток:1-40 мА

2) Мощность питания:30 Вт

3Максимальное выходное напряжение:800В

4)Размер стенда для образцов:125х100 мм

5) Время выполнения:1-600С

6) Рабочий вакуум диапазон:0.1до1 мбар

7) Размер камеры:100mmWX100mmHX127mmD

Размер прибора:136mmHx364mmD

вес19.5килограмм